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原子層沉積系統鍍膜機 經濟型科研沉積平臺 穩定成膜、均勻可靠、面向材料研究 便捷、穩定、再現性高

Desk V沉積鍍膜機使用一個2英寸的陰極進行濺射，由一個最大輸出為100毫安的直流電源驅動。使用傾斜/旋轉臺來實現好的樣品覆蓋，特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺和快門對樣品進行預清潔。不需要濺射嗎？你可以使用碳棒或碳紗進行蒸發。 Desk V包括一個堅固的機械泵，可迅速將系統的工作壓力提高到50 mtorr。想要更多的功能?選擇有著鋼制腔室和渦輪分子泵的DeskTSC來濺射