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產(chǎn)品中心

Product Center

當前位置：首頁產(chǎn)品中心鍍膜機原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機

原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機

產(chǎn)品簡介

原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機
經(jīng)濟型科研沉積平臺
穩(wěn)定成膜、均勻可靠、面向材料研究
便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高

產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-03-19
廠商性質：代理商
訪問量：327
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品牌其他品牌價格區(qū)間面議
應用領域電子/電池,航空航天,綜合

原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機

設計理念 

 1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等*制程。

 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 

3. 原子層沉積系統(tǒng)設計具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。

 設計特點 

 1. 模塊化前驅物導入系統(tǒng)易于維護、維修與擴充最多4組前驅物，并可使用 低蒸汽壓前驅物；分流避免管路堵塞與粉塵問題 

2. 低泄露率特殊設計，可摒除低劑量污染源影響制程結果 

3. 滿足現(xiàn)行多數(shù)材料制程需求： Oxide or nitride of Al，Si，Ti，Zr，Hf，etc..Metal(TBD) 4. 單系統(tǒng)寬54cm內，實驗室友好尺寸 

5. 特殊電漿源設計(Remote plasma)可提升GPC 6%(相較于ICP) 

6. 特殊進氣設計改善均勻性(U%<2%)針對死角殘留問題進行特殊設計

原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機

原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機


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