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產品簡介
原子層沉積系統鍍膜機經濟型科研沉積平臺 穩定成膜、均勻可靠、面向材料研究便捷、穩定、再現性高
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,航空航天,綜合 |
原子層沉積系統鍍膜機
設計理念
1. SE series可執行Thermal-ALD,PEALD,與ALA等*制程。
2. SE series具有高度的改造彈性,但其性能與穩定性并不因此而犧牲。
3. 原子層沉積系統設計具有便捷、穩定、再現性高的產品定位。
設計特點
1. 模塊化前驅物導入系統易于維護、維修與擴充最多4組前驅物,并可使用 低蒸汽壓前驅物;分流避免管路堵塞與粉塵問題
2. 低泄露率特殊設計,可摒除低劑量污染源影響制程結果
3. 滿足現行多數材料制程需求: Oxide or nitride of Al,Si,Ti,Zr,Hf,etc..Metal(TBD) 4. 單系統寬54cm內,實驗室友好尺寸
5. 特殊電漿源設計(Remote plasma)可提升GPC 6%(相較于ICP)
6. 特殊進氣設計改善均勻性(U%<2%)針對死角殘留問題進行特殊設計
原子層沉積系統鍍膜機
